期刊名称：AFTERALL
ISSN: 1465-4253
E-ISSN: 2156-4914
核心类别：A&HCI
是否OA：OA和非OA都有可自选
研究领域：艺术
出版周期：半年刊
出版社：UNIV CHICAGO PRESS
出版语言：英语
出版社地址：1427 E 60TH ST, CHICAGO, USA, IL, 60637-2954
期刊官网：https://www.journals.uchicago.edu/toc/aft/current
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期刊介绍
《Afterall》成立于1998年，是一本当代艺术杂志，对艺术及其社会，政治和哲学背景进行深入分析。每期都为读者提供了经过充分研究的贡献，从不同的角度讨论了每位艺术家的作品。《Afterall》由伦敦艺术大学中央圣马丁学院出版，与安特卫普艺术博物馆（MHKA）合作编辑和研究; 多伦多大学约翰·丹尼尔斯建筑、景观与设计学院;和多伦多安大略省美术馆;和新加坡南洋理工大学当代艺术中心;与芝加哥大学出版社合作。
年发文量
根据WOS收录的文章来看，期刊的年发文量近年呈平稳趋势。2019年30篇，2020年27篇，2021年25篇，2022年11篇。
文章类型
根据WOS收录的文献量（Article、Editorial Material、Art Exhibit Review、Biographical-Item、Poetry）可以看出Afterall从2013年至今，共收录267篇。文章类型上，以Article为主，共236篇，占比约88.390%；其次是Editorial Material类型，为24篇，占比约为8.989%；Art Exhibit Review类型的文章4篇，占比约为1.498%；Biographical-Item 类型的文章2篇，占比约为0.749%。
国家/地区发文量
目前发文量最多的为美国学者，共52篇，占比约19.476%；第二名是英国学者，共发文42篇，占比约为15.730%；德国学者发文16篇，发文量排名第三，占比约5.993%。
注意事项
1、禁止一稿多投，未在其他杂志发表过。
2、所有出版的文章用于研究、教学和学术目的。
标签： 艺术
